나노임프린트적용 Sub-30nm Gate MOSFET
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2022.12.02 12:35
본 나노임프린트 기술은 기존의 광학계를 이용하는 방법에 비하여 sub-30 nm의 소자의 제작에 용이하며, 특히 CMOS 소자에 적용하여 1ps 이하 게이트 전달지연 시간의 회로 …
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